KYOTO, Japon–(BUSINESS WIRE)–SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN SPE, président : Masato Goto), une société du SCREEN Holdings Group (TOKYO : 7735), a finalisé le développement de son nouveau système de nettoyage de face arrière de tranche1SB-3300 premier du secteur. Le SB-3300 est doté d’une fonction de gravure/nettoyage chimique et d’une fonction de nettoyage physique utilisant des brosses. Les ventes du système commenceront en décembre.
Le marché des centres de données s’est considérablement étendu au cours des dernières années en réponse à l’augmentation continue du trafic de données requis pour des activités, telles que le travail à distance, l’apprentissage en ligne et la vidéo en streaming. Dans le même temps, l’adoption rapide des smartphones compatibles 5G et de l’infrastructure IoT, principalement pour les applications embarquées et industrielles, a augmenté la demande pour les semi-conducteurs sophistiqués nécessaires à ces marchés et à d’autres marchés avant-gardistes.
Cependant, à mesure que la miniaturisation et l’intégration des circuits pour les CI de logique et de mémoire avancés se sont améliorées, les taux de rendement ont baissé en raison de l’adhésion de particules sur la face arrière et la déformation des tranches durant le processus de fabrication. Ce problème a rendu le nettoyage de la face arrière plus important que jamais et a conduit à des appels croissants en faveur d’améliorations de la productivité.
En réponse à ces tendances, SCREEN SPE a développé SB-3300, le tout premier système de nettoyage de tranche individuelle du secteur. Le SB-3300 est spécialement conçu pour le nettoyage de la face arrière des tranches et comporte à la fois une fonction de nettoyage chimique et une fonction de nettoyage à brosse utilisant une technique d’épuration.2 Le système effectue simultanément des processus de nettoyage chimique et à la brosse assurant une élimination extrêmement efficace des particules sur la face arrière des tranches. Ces particules sont une cause significative de défocalisation durant le processus photolithographique des dispositifs semi-conducteurs de pointe.
Le SB-3300 est équipé du système de mandrin exclusif de SCREEN SPE qui protège de façon sécuritaire la surface de dispositif des tranches, évitant à la fois les résidus de gravure sur le bord de la tranche et le bouclage chimique sur la surface du dispositif. Il assure également une gravure hautement contrôlée utilisant le traitement de densification de la séquence de buse et une fonction de contrôle de la distribution chimique. Ceci produit une précision et une uniformité exceptionnelles sur toute la surface de la tranche qui permet d’éviter une déformation.
Le SB-3300 utilise aussi une plateforme qui hérite la conception extrêmement compacte rendue possible par les tours empilées à quatre niveaux du SU-3300, le modèle de nettoyage de tranche individuelle emblématique de SCREEN SPE. Cette plateforme est équipée de 16 chambres permettant au SB-3300 d’atteindre le plus haut niveau de capacité de traitement pratique du secteur pour le nettoyage de la face arrière à jusqu’à 700 tranches par heure, y compris l’inversion des tranches. Grâce à ses très nombreuses fonctionnalités, le système résout divers problèmes liés aux processus de nettoyage de la face arrière des tranches pour les dispositifs semi-conducteurs avancés tout en faisant une contribution majeure à l’amélioration de la productivité.
1. Basé sur la recherche SCREEN interne.
2. Méthode par laquelle les tranches sont nettoyées physiquement à l’aide de brosses souples et d’eau pure.
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